磁控濺射膜常見故障的排除

膜層灰暗及發黑

(1)真空度低於 0.67Pa。應將真空度提高到 0.13-0.4Pa。

(2)氬氣純度低於 99．9％。應換用（yòng）純度為 99．99％的氬氣。

(3)充氣係（xì）統漏（lòu）氣。應檢查充氣係統，排（pái）除漏氣現象。

(4)底漆未（wèi）充分固化。應適當延長底漆的固化時間。

(5)鍍件放氣量太大。應進行幹燥和（hé）封孔處理 膜層表麵光澤暗淡（dàn）

(1)底漆固化不良或（huò）變質。應適當延長底（dǐ）漆的固化時間或更換底漆。

(2)濺射時間太長。應適當縮短（duǎn）。

(3)濺射成（chéng）膜速（sù）度（dù）太快。應適當（dāng）降低濺射電流或電壓

膜層（céng）色澤不均

(1)底漆噴塗得（dé）不均勻。應改進底漆（qī）的施塗方法。

(2)膜層太薄。應適當提高濺射速度或延長濺射時間。

(3)夾（jiá）具設計（jì）不合理。應改進夾具設計（jì）。

(4)鍍件的幾（jǐ）何形狀太（tài）複雜。應適當提高鍍件（jiàn）的（de）旋轉速度

膜層（céng）發皺、龜裂

(1)底漆噴塗得（dé）太厚。應（yīng）控製在（zài） 7—lOtan 厚度範圍內。

(2)塗料的粘（zhān）度太高。應適當降低。

(3)蒸發速度（dù）太快。應適當減慢。

(4)膜層太厚。應（yīng）適當縮短濺射時間。

(5)鍍件（jiàn）溫度太高。應適當縮短對鍍件的加溫時間

膜層表麵（miàn）有（yǒu）水跡、指紋及灰粒

(1)鍍件（jiàn）清洗後未充（chōng）分幹燥。應加強鍍前處理。

(2)鍍件表麵濺上水珠或唾液。應加強文明生產，操作者應（yīng）帶口（kǒu）罩。

(3)塗底漆後手接觸過鍍件，表麵留下指（zhǐ）紋。應嚴（yán）禁（jìn）用手接觸鍍件（jiàn）表麵（miàn）。

(4)塗（tú）料中有顆粒物。應過濾塗料（liào）或更換塗料。

(5)靜電除塵失效或噴塗（tú）和固化環境中有顆粒灰塵。應更換除塵器，並保持工作環境的清潔

膜層附著力不良

(1)鍍件除油脫脂不徹（chè）底。應加強鍍前處理。

(2)真空室內不清潔（jié）。應清洗真空室。值得注意的是，在裝靶和拆靶的（de）過程中，嚴禁用手（shǒu） 或不幹淨的物體與磁控源接觸，以保證磁控源具有較高的清潔度，這是提高膜層結合（hé）力的（de） 要措施之一。

(3)夾具不清潔。應清洗夾具。

(4)底（dǐ）塗料選用不當。應更換塗料。

(5)濺射工藝條件控製不當。應改（gǎi）進（jìn）濺射（shè）工藝條件（jiàn）