無論監控儀精度怎樣，它也隻能（néng）控製真空室裏單點位置的膜厚，一般來講是（shì）工件架的中間位置。如果真空電鍍設備此位置的膜厚不是絕對（duì）均勻的，那麽遠離中心位置的基片就無法得到（dào）均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發源的（de）不（bú）穩定或膜材的不（bú）同表現而引起（qǐ）的，所（suǒ）以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結構和蒸發源的恰當選擇可以使這些（xiē）影響最小化。
　　在過去幾年中，越來越多的用（yòng）戶要求鍍膜係統製（zhì）造廠（chǎng）家提供高性能的小規格、簡便型（xíng）光學鍍膜係統，同時，用戶對性能的（de）要求不僅沒有降低，反而（ér）有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水後光譜變化最小（xiǎo）化等方麵。
　　現在，係統的平（píng）均尺（chǐ）寸規格已經在降低，而應用小（xiǎo）規（guī）格設備進行光學鍍膜（mó）的生產也（yě）已經轉變成為純技術問題（tí）。因此，選用現代化光學鍍膜係（xì）統的關鍵取決於對（duì）以下因素的認真考慮：對鍍膜產品的預期性能（néng），基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。

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