離子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發（fā）物質（zhì）部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的（de）同時，將蒸發物或反應物沉積在（zài）基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真（zhēn）空蒸發三（sān）者有機結合起來，不（bú）僅能明顯地改進了（le）膜（mó）質量，而且（qiě）還擴大了薄膜的應用（yòng）範圍。其優點（diǎn）是薄膜附（fù）著力強，繞射（shè）性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的區別。多弧離（lí）子鍍采用的是弧光放電，而並不是傳統離子鍍的輝光放電（diàn）進行沉積。簡單的說，多弧離子鍍的原理（lǐ）就是把陰（yīn）極靶作為蒸（zhēng）發源，通過靶與陽極殼體（tǐ）之間的弧光放電，使靶材蒸發，從而在空間（jiān）中形成等離子體，對基體進行沉積。

可以鍍製不鏽鋼、鉻、鈦、鎢等多種金屬膜，也可鍍製合金膜（mó）或化合物（wù），如TiN\TiAlN\CrN膜等,臥式（shì）多弧離子鍍膜（mó）機主要針對（duì）大麵積五金工件鍍裝（zhuāng）飾膜或者功能膜，適合於在不鏽鋼板、不鏽鋼管、不鏽（xiù）鋼門等工件表麵鍍（dù）膜。

1)、此類設備真空室最大尺寸能實現 φ5000X10000MM（長）
2)、是在大型（xíng）板材、管材上鍍製各類裝飾膜層及功能膜膜層的適合（hé）設備。